針對高硅高銅壓鑄鋁陽極氧化處理加工而設計，解決了高硅高銅壓鑄鋁較難陽極氧化的難題；
通過調整加工工藝參數，可將高硅高銅壓鑄鋁陽極氧化膜厚做到30um以上，最高可到50um以上；
通過調整工藝加工參數，可以將陽極氧化膜層的硬度（Hv）做到400～500；
可在10～20℃寬溫度范圍內進行陽極氧化處理；
氧化后的膜層堅硬，耐磨性優良；
具有優良耐鹽霧腐蝕性能以及耐日曬牢度（耐UV性）；
若作適當后處理，膜層耐磨性進一步提高，摩擦系數大大降低，使用壽命更久；
有硫酸法和草酸法兩種陽極氧化方法，工藝適用性廣，氧化質量穩定；
自動化程度高，操作簡單，質量穩定。
高硅壓鑄鋁陽極氧化標準流程：
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